Nikon LV150N顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。LV-N系列顯微鏡經過不斷的發展完善并配備了新的光學系統和功能，可根據觀察方法和目的選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射、透射組合照明模式以滿足任何應用需求。
　　Nikon LV150N顯微鏡使用了新的光學系統尼康CFI60，以獨特的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱，經過改進的光學性能，使其具有更高的性能。經過進一步改進，具有長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。輕松的操作與數碼相機集成，可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更高效地進行觀察和圖像拍攝?！　?br /> 　　Nikon LV150N可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量等。
　　明場半導體（IC晶片）從物鏡到照明系統，LV-N系列采取了全方位的防眩光措施，確保生成明亮、高對比度的圖像。
　　暗場半導體（IC晶片）采用尼康獨特設計理念開發的物鏡暗場照明系統可實現明亮的暗場觀察，從而可對標本差異和缺陷進行高靈敏度的檢測。
　　落射DIC基板可使用適合標本觀察的標準型和高對比度型DIC插片。LV-N系列十分適合觀察設備和精密模具中的細微差異等應用。
　　落射熒光基板（焊點）LV-N系列在觀察有機EL或安裝的基板等具有熒光性質的標本時表現出了卓越的性能。